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ナノパターン形成装置用 NG 電子描画装置 EB litho

ナノパターン形成装置用 NG
電子描画装置
EB litho
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電子描画装置
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メーカー
クレステック CRESTECH
型式
CABL-2100LBNG
年式
-
保管場所
塩山
カテゴリー
半導体
機械仕様
弊社で動作確認ができないため、故障・欠品の有無不明。
添付ファイル

価格

5,000,000円(税別)